Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву
Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Разновидности МДП – транзисторовСодержание книги Поиск на нашем сайте
1. По типу проводимости канала n-канальный (рассмотрен) p-канальный
Рис. 16. p-канальный МДП транзистор с индуцированным каналом
2. По характеру канала: транзисторы с индуцированным каналом когда
Именно такие транзисторы рассмотрены выше.
Рис. 17. Входная характеристика n- канального транзистора с индуцированным каналом.
Рассмотрим транзистор со встроенным каналом:
Рис. 18. Структура n-канального МДП транзистора (аналогично для p-канального)
Рис. 19. Входная характеристика n- канального транзистора со встроенным каналом.
Рис. 20. Обозначения различных МДП транзисторов
Зависимость порогового напряжения от электрофизических характеристик
Подложка p-типа (n-канальная структура):
Подложка n-типа (p-канальная структура):
jМП - разность работ выхода электронов из металла и полупроводника: для подложки p-типа:
jМП=jМПС‑|jF|
для подложки n-типа:
jМП=jМПС+|jF|
jМПС=‑0.6 В - разность работ выхода электронов из алюминия и кремния с собственным типом проводимости. |jF| - абсолютное значение потенциала Ферми, измеряемого в В, или уровня Ферми в эВ:
Например:
тогда разность работ выхода:
N – концентрация примеси в подложке.
Для поликремниевого затвора:
Разность работ выхода из затвора и подложки: 1. n-канальный транзистор – подложка p-типа, затвор легирован n-примесью
2. p-канальный транзистор – подложка n-типа, затвор легирован p-примесью
В SPICE пороговое напряжение называется vto. Расчет параметров МОП-транзисторов подробно описан в [1 - §8.6, 11.3; 2 - §9.3].
Динамические параметры
Удельные емкости перекрытия:
Названия: cgso – удельная емкость перекрытия затвор – исток, cgdo – удельная емкость перекрытия затвор – сток, cgbo – удельная емкость перекрытия затвор – подложка за счет выхода затвора за пределы канала, единица измерения этих емкостей – Ф/м. Емкости p-n-переходов при нулевом смещении рассчитываются по известным формулам, аналогично емкостям биполярных транзисторов и резисторов. Названия: cbs – емкость исток – подложка, cbd – емкость сток – подложка, Ф. Другие параметры tox – толщина окисла, м, (10-7), level – уровень модели (1 – самая простая модель), L, W – длина и ширина канала, м, UO – подвижность носителей тока в канале, см2/(В×с), значение по умолчанию (UO=600) соответствует поверхностной подвижности электронов.
Приборы и ИС на арсениде галлия
Особенности
Преимущества: 1. Высокая подвижность электронов µn =8000 - 11000 см2/(В×с), следовательно высокое быстродействие. 2. Большая ширина запрещенной зоны (1.4 эВ), следовательно, возможно создание схем устойчивых к высокой температуре и радиации. 3. Благодаря большая ширине запрещенной зоны, исходные пластины имеют высокое удельное сопротивление, следовательно, они являются полуизоляторами. Это облегчает изоляцию элементов ИС друг от друга.
Недостатки: 1. Технологические трудности, так как это химическое соединение. 2. Легирование только ионной имплантацией, диффузия неприменима. 3. У GaAs нет стабильного естественного окисла, трудности с изоляцией. 4. Поверхность очень восприимчива к различным химическим веществам. 5. Хрупкий материал.
Приборы GaAs
Рис. 21. Типы приборов на арсениде галлия.
КОНТАКТ ШОТТКИ: МЕТАЛЛ – n – ПОЛУПРОВОДНИК.
Рис. 22. Контакт Шоттки: зонные диаграммы. Анод – металл, катод – n – полупроводник.
СТРУКТУРА ПОЛЕВОГО ТРАНЗИСТОРА.
Рис. 23. Структура полевого транзистора на GaAs с затвором Шотки.
Зависимость тока стока IС от напряжений сток – исток UС и затвор – исток UЗ для малых напряжений UС.
EC – дно зоны проводимости, EF – уровень Ферми.
С ростом UС обедненный слой со стороны стока расширяется и наступает отсечка канала, как в МДП транзисторах.
Рис. 24. Выходные характеристики полевого транзистора на GaAs с затвором Шотки.
обычно выполняется условие
Основные параметры:
Взаимной проводимостью называется:
в линейном режиме взаимная проводимость равна:
в режиме насыщения
VОТС определяется экспериментально из характеристики IС НАС Время пролета:
У барьера Шоттки есть только барьерная емкость [3]:
Если UОТС <0, при UЗ =0 через структуру течет ток IС - это нормально открытый транзистор (D – типа, работающий в режиме обеднения). Если UОТС >0, при UЗ =0, IC =0 (т.е. ток через не течет): это нормально закрытый транзистор (E – типа, работающий в режиме обогащения). У нормально открытого транзистора IC большой, следовательно большое быстродействие и мощность. У нормально закрытого транзистора IC малый, следовательно низкая мощность и быстродействие.
Физические параметры арсенида галлия.
Относительная диэлектрическая проницаемость e GaAs=11 (e 0=8.85×10-14 Ф/см). Ширина запрещенной зоны j З=1.40 эВ (В). Подвижность электронов µn =8000…11000 см2/(В×с) Собственная концентрация ni =1.5×106 см-3. Барьер Шоттки (n-GaAs) f B=0.8 эВ (В). Постоянная Ричардсона (n-GaAs): низкая напряженность электрического поля A*=8.2 А/(см2×К2), высокая напряженность электрического поля A*=144 А/(см2×К2).
Модели ПТШ, используемые в PSPICE.
В этих моделях зависимости тока стока от напряжений отличаются от рассмотренных выше: Модель первого уровня (Level 1):
Модель второго уровня (Level 2):
Рис. 25. PSPICE – модель полевого транзистора на GaAs с затвором Шотки.
Описание ПТШ в PSPICE:
bxxx <drain node> <gate node> <source node> <model name> .model <model name> gasfet(…)
Параметры GaAs ПТШ SPICE: Level=1,2 VTO= напряжение отсечки, -2,5 В BETA – крутизна, Lambda – коэффициент наклона в пологой части, 1/В Tau – время пролета, сек Alpha – параметр напряжения насыщения, 1/В RG, RD, RS – сопротивления, Ом CGD, CGS, CDS – емкости затвор – сток, затвор – исток, сток – исток, Ф.
Параметры рассчитываются по следующим формулам:
- на сток и исток приходится по половине емкости диода Шотки, S – площадь металлического затвора.
- это – емкость плоского конденсатора, обкладками которого являются высоколегированные области стока и истока, а диэлектриком – низколегированная область канала.
Логические схемы
Общие сведения
Логические схемы на входе и выходе должны иметь два устойчивых состояния: логического нуля и логической единицы.
Примеры логических функций, выполняемых схемами:
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
Последнее изменение этой страницы: 2016-08-12; просмотров: 481; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 216.73.217.21 (0.01 с.) |