Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву
Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Температурна залежність параметрів тунельного діодаСодержание книги
Поиск на нашем сайте
Струм тунельного діоду складається із двох частин (складових): тунельна і інжекційна. Тунельна складова обумовлена струмом рівня Фермі за рахунок високої концентрації домішок, а інжекційна складова обумовлена інжекцією носіїв заряду через p-n-перехід. Вплив температури на ці складові різний. На тунельну складову впливають наступні фізичні фактори при зміні температури: 1) зі збільшенням температури зменшується ширина забороненої зони, це приводить до зменшення товщини потенційного бар’єру, через який тунелюють електрони і тунельна складова збільшується, тобто збільшується піковий струм тунельного діоду. 2) при збільшенні температури змінюється розподіл електронів по енергетичним рівням і рівень Фермі зміщується вниз, що приводить до зменшення переходу числа електронів із n-області в р- область, а відповідно до цього тунельна складова повинна зменшуватися. Ці два фактори відносно тунельної складової діють в різних напрямках. У більшості тунельних діодів ці фактори практично урівноважують один одного і піковий струм тунельного діоду практично не залежить від температури. Збільшення температури збільшує інжекційну складову, як і в звичайних діодах тому зі збільшенням температури буде збільшуватися струм впадини і при деякій критичній температурі у тунельного діода не буде ділянки з від’ємним диференційним опором. Варикапи
Варикап – це напівпровідниковий діод, в якому використовується залежність ємності p-n-переходу від зміни зворотної напруги.
Рисунок 17 Позначення варикапа на схемах
Використовується як ємність в схемі з електричним керуванням величини. Варикап, як елемент схеми можна представити еквівалентною схемою:
Рисунок 18 Еквівалентна схема варикапа де: Lв - індуктивність виводів і їх опір rб - опір бази, і так як він набагато більше опору виводів, то опір виводів в більшості випадків не показують Cбар, rпер - бар’єрна ємність переходу і його опір, які ввімкнені паралельно. Перехід який використовується в варикапі, як і перехід звичайного діода, має дві складові ємності: дифузійна (проявляє свої властивості тільки при прямому включенні, і яку практично не враховують, тому що вона ввімкнена паралельно з дуже малим прямим опором p-n-переходу) і бар’єрна (проявляє свої властивості при включенні в зворотному напрямі і залежить від прикладеної напруги).
n=2 –для різкого переходу; n=3 – для плавного переходу. Для виготовлення варикапів застосовуються як різкий, так і плавний переходи. У різких більша залежність накопичення зарядів від прикладеної напруги і менша ширина p-n-переходу. У варикапів із різким переходом ємність С(0) може змінюватися від декількох пікофарад до декількох сот пікофарад. У плавних переходів ширина p-n-переходу набагато більша, відповідно ємність у них менше і плавні переходи практично не застосовуються для виготовлення варикапів.
Частотні властивості варикапів
Варикап, як елемент схеми, має такі параметри: ємність варикапа – величина ємності, яка заміряна між виводами варикапу при заданій напрузі. добротність варикапу Qв – це відношення реактивного опору варикапа на заданій частоті до опору втрат. коефіцієнт перекриття по ємності – це коефіцієнт, який визначається для двох ємностей при різній напрузі живлення. Розглядаючи еквівалентну схему варикапа можна знайти дві добротності при роботі на низький і на високій частоті. При роботі на низьких частотах можна не враховувати малий опір бази і добротність варикапа буде залежати тільки від співвідношень опору переходу і його бар’єрної ємності. Добротність – це величина зворотна тангенсу кута втрат.
При роботі на високих частотах ємність p-n-переходу зменшується, а тому опором p-n-переходу можна знехтувати, тому що він паралельно ввімкнений з малим опором ємності і в еквівалентній схемі будуть послідовно включені бар’єрна ємність Сбар і опір бази rбази, тоді добротність буде:
Позначення діодів
Відповідно до державних стандартів для позначення діодів застосовується 6 позицій:
1) буква або цифра, які характеризують матеріал з якого виготовлений діод: Г – 1 – германій К – 2 – кремній А – 3 - арсенід галію 2) буква, яка визначає клас діодів: Д – універсальні В – варикапи С – стабілітрони И – тунельні діоди А – діоди НВЧ 3) три позиції – цифри, які визначають призначення діодів: 101 – 399 – випрямні або перетворюючі діоди низької частоти 401 – 499 – універсальні діоди 501 – 599 – імпульсні діоди *У стабілітронів перша цифра показує потужність в ватах, дві останні – напругу стабілізації. 4) буква, яка характеризує параметри діоду в його класі. Транзистори Транзистор - напівпровідниковий прилад, який застосовується для підсилення потужності малопотужних електричних сигналів і генерації електричних коливань. В залежності від принципу роботи і фізичних процесів, які відбуваються в транзисторі, вони діляться на дві групи: 1) біполярні транзистори (БПТ), які в залежності від чергування напівпровідників, діляться на дві підгрупи - p-n-p – транзистори - n-p-n – транзистори основним для цих транзисторів являється створення струму двома видами носіїв заряду – електронів і дірок. 2) польові (уніполярні) транзистори. Носіями для створення струму є електрони або дірки. Ці транзистори теж діляться на дві підгрупи: - польові транзистори з керуючим p-n-переходом - польові транзистори ізольованим затвором а) польові транзистори з ізольованим затвором і індукованим каналом б) польові транзистори з ізольованим затвором і вбудованим каналом. Як елементи схеми всі транзистори поділяються на групи в залежності від робочої частоти: - низькочастотні - високочастотні - надвисокочастотні (НВЧ) по потужності: - малої потужності - середньої потужності - великої потужності
Біполярні транзистори Біполярним транзистором називають напівпровідниковий прилад, який має два або більше випрямляючих переходи і три або більше не випрямляючих переходів – виводів.
Рисунок 19 Структура біполярного транзистора w – Активна ширина бази
У біполярних транзисторів один перехід може керувати іншим. Для створення двох p-n-переходів, які часто використовуються у транзисторах, застосовуються напівпровідники з різною концентрацією домішок. Найбільш легований домішками шар напівпровідника, називається емітером і відповідно він має найменший об’ємний питомий опір. Середній шар напівпровідника, який найменш легований і має відповідно найбільший питомий опір, називається базою. Перехід, створений напівпровідниками між базою і емітером називається емітерним переходом, і при нормальному вмиканні транзистора цей перехід вмикається в прямому напрямі. Третій шар напівпровідника, який має таку ж провідність, що і емітер, але приблизно на порядок менше має степінь легування домішками, називається колектором, а перехід колекторним, і при нормальному вмиканні транзистора вмикається в зворотному напрямі. В залежності від того, яку провідність має база, транзистори діляться на дві групи.
Рисунок 20 Типи біполярних транзисторів
Область бази, яка знаходиться між двома p-n-переходами, називається активною. У нормально виготовлених транзисторів активна ширина області бази повинна бути набагато менше дифузійної довжини носіїв заряду. Основні процеси в транзисторі визначаються процесами, які відбуваються в базі. При рівномірному легуванні напівпровідника бази домішками, в ній відсутнє електричне поле, а відповідно рух носіїв заряду відбувається тільки за рахунок дифузії, і транзистори називають без дрейфовими або дифузійними. При нерівномірному легуванні бази домішками, в базі присутнє електричне поле, яке створюється наявністю градієнта концентрації носіїв заряду, це поле сприяє руху носіїв заряду і транзистори називаються дрейфовими.
|
||
|
Последнее изменение этой страницы: 2016-08-01; просмотров: 165; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 216.73.217.128 (0.006 с.) |