Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву
Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Квантовый выход люминесценцииСодержание книги
Поиск на нашем сайте Для идеального полупроводникового диода зависимость плотности тока от напряжения в стационарном режиме записывается в виде
где j s–плотность тока насыщения; V см – напряжение на диоде; φT = kT / q – температурный потенциал равный 0,026 В при комнатной температуре.
где q – заряд электрона, Обычно слагаемые в круглых скобках выражения (2.2) сильно различаются, т.е. имеет место почти односторонняя инжекция неосновных носителей в ту область кристалла, где условия излучательной рекомбинации более благоприятны и соответствуют желаемой области спектра. Предположим, что имеет место преимущественная инжекция электронов ( Для одномерной модели в случае прямого смещения распределение ннжектированных носителей заряда, например, электронов в р -области (при низком уровне инжекции) подчиняется закону
где
Обозначим через
где
Из уравнения (2.4) найдем:
Учитывая, что
Определим внутренний квантовый выход светодиода
С учетом выражения (2.2), внутренний квантовый выход определяется соотношением концентраций легирующих примесей квазинейтральных областей и сечением захвата центров излучательной и безызлучательной рекомбинации в материале. Если учитывать излучательную рекомбинацию в р - и n -области, то выражение (2.8) запишется следующим образом
где Скорость безызлучательной рекомбинации велика в полупроводниках с непрямыми межзонными переходами или при наличии глубоких рекомбинационных центров, в качестве которых выступают различные дефекты кристаллической решетки. Поэтому в окрестности р – n -перехода стремятся снизить количество таких дефектов, в том числе концентрацию нежелательных примесей, с тем, чтобы уменьшить скорость безызлучательной рекомбинации. На рисунке 2.4 представлена зависимость η int от плотности тока j для GaP диодов. При малых значениях j диффузионная составляющая прямого тока мала, и в основном он обусловлен туннельными переходами и безызлучательной рекомбинацией внутри и вне ОПЗ р – n -перехода. Как следствие этого, η int при малых токах невелик и резко нарастает с увеличением j до тех пор, пока диффузионная компонента не становится преобладающей в токе диода. Дальнейшее увеличение плотности тока приводит к насыщению излучательных центров и к уменьшению квантового выхода.
|
||||||
|
Последнее изменение этой страницы: 2021-11-27; просмотров: 128; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 216.73.216.198 (0.009 с.) |