Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву
Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Последовательность выполнения работы. Образец чистого кремния при Т=27 °С содержит донорную и акцепторную примеси известнойСодержание книги
Поиск на нашем сайте
Образец чистого кремния при Т=27 °С содержит донорную и акцепторную примеси известной массы (см. табл. 2.2).
Таблица 2.2.
Необходимо определить 1. Концентрацию каждой примеси в образце [см -3]. 2. Тип проводимости. 3. Концентрацию каждой примеси, при которой Si становится вырожденным [см -3]. 4. Подвижность носителей заряда в каждом случае [см 2 / В×с]. 5. Равновесную концентрацию электронов и дырок в каждом случае [см -3]. 6. Положение уровня Ферми [эВ] и изобразить его на энергетической диаграмме. 7. Удельное сопротивление образца [Ом × см]. 8. Свет, падающий на пластину, приводит к возникновению стационарной концентрации фотогенерированных электронов и дырок 1012 см -3. Считая, что толщина пластины мала по сравнению с глубиной поглощения света, так что свободные носители распределены равномерно по ее объему, найти результирующие концентрации электронов и дырок в пластине, а также рассчитать и изобразить положение квазиуровней Ферми для обоих типов носителей. 9. Рассчитать Eg и ni, используя формулы температурной зависимости и определить расхождение с табличными данными. 10. Рассчитать длину волны [мкм] излучения, необходимого для создания электронно-дырочных пар в собственном Si и идентифицировать спектральный диапазон (т.е. инфракрасный, видимый, ультрафиолетовый или рентгеновский). Результаты вычислений занести в таблицу. Пример расчета Данные: Таблица 1.
Результат расчета: Таблица 2.
9. Табличные данные: Eg=1,124 эВ; ni=1,45´1010см -3. Расчетные значения: Eg= .эВ; ni=,´1010см -3. Погрешность: |Egрасч. - Egтабл.| / Egтабл.= % |niрасч. - niтабл.| / niтабл.= % 10. Расчет длины волны излучения. l = …… Спектральный диапазон − ……
Контрольные вопросы
1. Закон действующих масс. 2. Концентрация носителей заряда в собственном полупроводнике ni. 3. Функция распределения Ферми-Дирака. 4. Концентрация носителей заряда в ЗП и ВЗ (n и p). 5. Вырожденные полупроводники. Способы вырождения. Положение уровня Ферми. 6. Что такое квазиуровни Ферми? Где используется это понятие? 7. Температурная зависимость подвижности носителей заряда. Механизмы рассеяния. 3. РАСЧЕТ ОСНОВНЫХ ПАРАМЕТРОВ И ХАРАКТЕРИСТИК p - n -ПЕРЕХОДА Эффект поля
Рассмотрим зонную диаграмму приповерхностной области полупроводников в равновесных условиях. Рассмотрим, как будет меняться концентрация свободных носителей в приповерхностной области полупроводника, когда вблизи этой поверхности создается электрическое поле. Для примера будем считать, что электрическое поле создается заряженной металлической плоскостью с поверхностной плотностью зарядов σ. Поскольку силовые линии электрического поля должны быть замкнуты, то на поверхности полупроводника возникает равный по величине, но противоположный по знаку электрический заряд. В зависимости от знака заряда на металлической плоскости (положительной или отрицательной) экранирующий это поле заряд в приповерхностной области полупроводника также будет различных знаков. На рисунке 3.1 приведены ситуации положительно и отрицательно заряженной плоскости.
Рис. 3.1. Изменение концентрации свободных носителей в приповерхностной области полупроводника при наличии вблизи поверхности заряженной металлической плоскости
Случай, когда в приповерхностной области возрастает концентрация свободных носителей, носит название обогащение, а когда в приповерхностной области уменьшается концентрация свободных носителей – обеднение. Если концентрация доноров в объеме полупроводника N D = 1015 см-3, то среднее расстояние между свободными электронами (и ионизованными донорами) в квазинейтральном объеме полупроводника будет равно а = N D-1/3 = 10-5 см = 1000 Å. При поверхностной плотности заряда σ = 1012 см-2 толщина слоя пространственного заряда ионизованных доноров будет равна 1011 / 1015 = 10-4 см, или 1 микрон. Отсюда следует, что электрическое поле в полупроводник может проникать на значительные расстояния. Изменение концентрации свободных носителей в приповерхностной области полупроводника под действием внешнего электрического поля получило название эффекта поля. При наличии внешнего поля приповерхностная область в полупроводнике не будет электронейтральной. Заряд, возникший в этой области, обычно называется пространственным зарядом, а сама область – областью пространственного заряда (ОПЗ). Наличие электрического поля E (z) в ОПЗ меняет величину потенциальной энергии электрона. Если поле направлено от поверхности вглубь полупроводника, то электроны в этом случае будут иметь минимальную энергию у поверхности, что соответствует наличию потенциальной ямы для электронов там же. Изменение потенциальной энергии электронов: где U (∞) – потенциальная энергия электронов в квазинейтральном объеме полупроводника. Поскольку на дне зоны проводимости кинетическая энергия электронов равна нулю ( Величина разности потенциалов между квазинейтральным объемом и произвольной точкой ОПЗ получила название электростатического потенциала: Значение электростатического потенциала на поверхности полупроводника называется поверхностным потенциалом и обозначается символом y s. Знак поверхностного потенциала y s соответствует знаку заряда на металлическом электроде, вызывающего изгиб энергетических зон. При y s > 0 зоны изогнуты вниз, при y s < 0 зоны изогнуты вверх (рис. 3.2).
Рис. 3.2. Энергетические зоны на поверхности полупроводника n ‑типа: а) в случае обеднения; б) в случае обогащения [1]
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
Последнее изменение этой страницы: 2021-03-09; просмотров: 130; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 216.73.216.198 (0.008 с.) |